powderИзвестия вузов. Порошковая металлургия и функциональные покрытияPowder Metallurgy аnd Functional Coatings (Izvestiya Vuzov. Poroshkovaya Metallurgiya i Funktsional'nye Pokrytiya)1997-308X2412-8767НИТУ "МИСИС"10.17073/1997-308X-2013-3-73-81powder-41Research ArticleНаноструктурированные материалы и функциональные покрытияNanostructured Materials and Functional CoatingsЭЛЕКТРОИСКРОВОЕ ОСАЖДЕНИЕ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ МАХ-ФАЗElectrospark sedimentation of protective coatings on the basis of MAX-phasesЗамулаеваЕ. И.ZamulaevaE. I.

канд. техн. наук, науч. сотр. НУЦ СВС МИСиС–ИСМАН

zamulaeva@misis.ruЛевашовЕ. А.LevashovE. A.

докт. техн. наук, проф., акад. РАЕН, зав. кафедрой порошковой металлургии и функциональных покрытий МИСиС, директор НУЦ СВС МИСиС–ИСМАН

levashov@shs.misis.ruСвиридоваТ. А.SviridovaT. A.

канд. физ-мат. наук, науч. сотр. Центра композиционных материалов МИСиС

tim-17@yandex.ruШвындинаН. В.ShvyndinaN. V.

вед. инженер НУЦ СВС МИСиС–ИСМАН

natali19-03@list.ruПетржикМ. И.PetrzhikM. I.

канд. физ-мат. наук, вед. науч. сотр. НУЦ СВС МИСиС–ИСМАН

petrzhik@shs.misis.ruНаучно-учебный центр СВС МИСиС–ИСМАН, 119049, Москва, В-49, Ленинский пр-т, 4Russian FederationНациональный исследовательский технологический университет «МИСиС», 119049, Москва, В-49, Ленинский пр-т, 4Russian Federation201320012015037381Copyright © Замулаева Е.И., Левашов Е.А., Свиридова Т.А., Швындина Н.В., Петржик М.И., 20132013Замулаева Е.И., Левашов Е.А., Свиридова Т.А., Швындина Н.В., Петржик М.И.Zamulaeva E.I., Levashov E.A., Sviridova T.A., Shvyndina N.V., Petrzhik M.I.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://powder.misis.ru/jour/article/view/41

Методом электроискрового осаждения получены покрытия с высоким содержанием МАХ-фазы при нанесении электродных материалов Cr2AlC на титановую подложку. Изучены структурно-фазовые состояния покрытий, сформированных при разных режимах. Установлено, что на на- чальной стадии образования покрытия на границе раздела образуется слой карбида титана в результате протекания химической реакции между электродом состава Cr2AlC и титановой подложкой, который в дальнейшем выполняет положительную роль диффузионного барьера. 

Using electrospark sedimentation, coatings with high content of MAX-phase has been obtained in applying Cr2AlC electrode materials onto titani- um substrate. Structural-phase conditions of the coatings formed at different modes have been studied. A layer of titanium carbide is found to be formed at the initial stage of formation of the coating as a result of chemical reaction between Cr2AlC electrode and titanium substrate, which ac- complishes the positive role of a diffusive barrier. 

электроискровое осаждениепокрытиеМАХ-фазаelectrospark sedimentationcoatingMAX-phaseReferencesTzenov N.V., Barsoum M.W. // J. Amer. Ceram. Soc. 2000. Vol. 83, No 4. P. 825.Tzenov N.V., Barsoum M.W. // J. Amer. Ceram. Soc. 2000. Vol. 83, No 4. P. 825.Barsoum M.W., El-Raghy T. // Amer. Sci. 2001. Vol. 89, No 4. P. 11.Barsoum M.W., El-Raghy T. // Amer. Sci. 2001. Vol. 89, No 4. P. 11.Barsoum M.W., Radovic M. // Ann. Rev. Mater. Res. 2011. Vol. 41. P. 195.Barsoum M.W., Radovic M. // Ann. Rev. Mater. Res. 2011. Vol. 41. P. 195.Eklund P., Beckers M., Jansson U. et al. // Thin Solid Films. 2010. Vol. 518. P. 1851.Eklund P., Beckers M., Jansson U. et al. // Thin Solid Films. 2010. Vol. 518. P. 1851.Frodelius J., Sonestedt M., Bjorklund S. et al. // Surface Coat. Technol. 2008. Vol. 202. P. 5976.Frodelius J., Sonestedt M., Bjorklund S. et al. // Surface Coat. Technol. 2008. Vol. 202. P. 5976.Pasumarthi V., Chen Y., Bakshi S. R., Agarwal A. // J. Alloy. Compd. 2009. Vol. 484. P. 113.Pasumarthi V., Chen Y., Bakshi S. R., Agarwal A. // J. Alloy. Compd. 2009. Vol. 484. P. 113.Верхотуров А. Д., Подчерняева И. А., Прядко Л. Ф., Егоров Ф.Ф. Электродные материалы для электроискрового легирования. М.: Наука, 1988.Верхотуров А. Д., Подчерняева И. А., Прядко Л. Ф., Егоров Ф.Ф. Электродные материалы для электроискрового легирования. М.: Наука, 1988.Гитлевич А. Е., Михайлов В. В., Парканский Н. Я., Ревуцкий В.М. Электроискровое легирование металлических поверхностей. Кишинев: Штиинца, 1985.Гитлевич А. Е., Михайлов В. В., Парканский Н. Я., Ревуцкий В.М. Электроискровое легирование металлических поверхностей. Кишинев: Штиинца, 1985.Самсонов Г. В., Виницкий И. М. Тугоплавкие соединения: Справочник. М.: Металлургия, 1976.Самсонов Г. В., Виницкий И. М. Тугоплавкие соединения: Справочник. М.: Металлургия, 1976.Lina Z., Zhoua Y., Li M., Wang J. // Z. Metallkd. 2005. Bd. 96, No 3. S. 291.Lina Z., Zhoua Y., Li M., Wang J. // Z. Metallkd. 2005. Bd. 96, No 3. S. 291.Lee D. B., Nguyen T. D., Han J. H., Park S.W. // Corros. Sci. 2007. Vol. 49. P. 3926.Lee D. B., Nguyen T. D., Han J. H., Park S.W. // Corros. Sci. 2007. Vol. 49. P. 3926.Massalski T. B., Okamoto H., Subramanian P. R., Kasprzak L. Binary Alloy Phase Diagrams. 2-nd ed. OH: ASM, Materials Park, 1990.Massalski T. B., Okamoto H., Subramanian P. R., Kasprzak L. Binary Alloy Phase Diagrams. 2-nd ed. OH: ASM, Materials Park, 1990.Levashov E. A., Pogozhev Yu. S., Shtansky D.V., Petrzhik M. I. // Rus. J. Non-Ferrous Metals. 2009. Vol. 50, No 2. P. 151.Levashov E. A., Pogozhev Yu. S., Shtansky D.V., Petrzhik M. I. // Rus. J. Non-Ferrous Metals. 2009. Vol. 50, No 2. P. 151.Levashov E. A., Pogozhev Yu. S., Kurbatkina V. V. // Processing and Specific Applications / Ed. C. Sikalidis. INTECH Open access publ., 2011. P. 3.Levashov E. A., Pogozhev Yu. S., Kurbatkina V. V. // Processing and Specific Applications / Ed. C. Sikalidis. INTECH Open access publ., 2011. P. 3.Шелехов Е. В., Иванов А. Н., Фомичева Е. И. // Завод. лаб. 1989. No 12. С. 41.Шелехов Е. В., Иванов А. Н., Фомичева Е. И. // Завод. лаб. 1989. No 12. С. 41.Шелехов Е. В., Свиридова Т. А. // МиТОМ. 2000. No 8. С. 16.Шелехов Е. В., Свиридова Т. А. // МиТОМ. 2000. No 8. С. 16.Xiao L.-O., Li S.-B., Song G., Sloof W. G. // J. Eur. Ceram. Soc. 2011. Vol. 31. P. 1497.Xiao L.-O., Li S.-B., Song G., Sloof W. G. // J. Eur. Ceram. Soc. 2011. Vol. 31. P. 1497.Levashov E. A., Zamulaeva E. I., Kudryashov A.E. et al. // Plasma Process and Polymers. 2007. No 4. P. 293.Levashov E. A., Zamulaeva E. I., Kudryashov A.E. et al. // Plasma Process and Polymers. 2007. No 4. P. 293.Ying G., He X., Li M. et al. // J. Alloy. Compd. 2011. Vol. 509. P. 8022.Ying G., He X., Li M. et al. // J. Alloy. Compd. 2011. Vol. 509. P. 8022.Kooi B. J., Poppen R. J., Carvalho N. J. M. et al. // Acta Mater. 2003. Vol. 51. Р. 2859–2872.Kooi B. J., Poppen R. J., Carvalho N. J. M. et al. // Acta Mater. 2003. Vol. 51. Р. 2859–2872.Hettinger J. D., Lofland S. E., Finkel P. et al. // Phys. Rev. B. 2005. Vol. 72. Р. 115–120.Hettinger J. D., Lofland S. E., Finkel P. et al. // Phys. Rev. B. 2005. Vol. 72. Р. 115–120.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.