ИСПОЛЬЗОВАНИЕ АЛЮМИНИДОВ ТИТАНА ДЛЯ СОЗДАНИЯ ЭЛЕКТРОИСКРОВЫХ ПОКРЫТИЙ

В качестве легирующих  электродов для создания электроискровых покрытий использованы алюминиды титана  (TiAl3, TiAl, Ti3Al), полученные методами порошковой металлургии. Интерметаллидные покрытия наносили на стальные подложки в среде аргона или азота. Микроструктуру  и состав полученных покрытий  исследовали методами сканирующей электронной микроскопии, рентгеноструктурного и микрорентгеноспектрального анализов. Установлено, что в созданных покрытиях присутствуют исходные фазы Ti–Al-интерметаллидов, однако  соотношение между  концентрациями Ti и Al, по сравнению со стехиометрическим, смещается в сторону  алюминия. При осаждении алюминидов титана  в азоте дополнительно в поверхностных слоях  образуется нитрид  тита- на. Термические и триботехнические испытания показали, что Ti3Al-покрытие, нанесенное в азоте, обладает высокой  износостойкостью и жаростойкостью

1. Ильин А.А., Колачёв Б.А., Польк ин И.С. Титано- вые сп лавы. Состав, стру ктура, свойства. М.: ВИЛС- МАТИ, 2009.

2. Budilov V., Kireev R., Kamalov Z. // Mater. Sci. Eng. A. 2004. Vol. 375–377. P. 656.

3. Setsuhara Y., Ohsako H., Makino Y., Miyake S. // Surf. Coat. Technol. 1994. Vol. 66. P. 495.

4. Kurzina I.A., Kozlov E.V., Sharkeev Yu.P. et al. // Ibid. 2007. Vol. 201. P. 8463.

5. Guo B., Zhou J., Zhang S. et al. // Appl. Surf. Sci. 2007. Vol. 253. P. 9301.

6. Лазаренко Н.И., Лазаренко Б.Р. // Электрон. обраб. материа лов. 1977. № 3. С. 12.

7. Верхотуров А.Д. Формирование поверхностного слоя металлов при электроискровом легировании. Владивосток: Да льнаука, 1995.

8. Jamnapara N.I., Frangini S., Avtani D.U. et al. // Surf. Eng. 2012. Vol. 28, № 9. P. 700.

9. Frangini S., Masci A. // Surf. Coat. Technol. 2004. Vol. 184. P. 31.

10. Heard D.W., Brochu M. // J. Mater. Process. Technol. 2010. Vol. 210. P. 892.

11. Ерёмина К.П., Астапов И.А., Химухин С.Н. и др. // Упрочн. технологии и покрытия. 2013. № 10. С. 8.

12. Николенко, С.В. Верхотуров А.Д. Новые электродные материа лы для электроискрового легирования. Владивосток: Да льнаука, 2005.

13. Avasarala B., Haldar P. // Electrochim. Acta. 2010. Vol. 56. P. 9024.